纳米压印光刻 PL-AS：绕开 DUV 的另一条路
交付PL-AS 真空气压式晶圆级纳米压印光刻设备是璞璘科技研发的一款半导体级纳米压印光刻机，于 2026 年交付。2026 年 6 月 5 日…
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EUV 光源的两条路线：LPP 与 DPP 各难在哪
为什么光源是 EUV 的核心难题极紫外光刻（EUV）使用波长 13.5 纳米的光。这个波段的光几乎会被所有材料吸收——包括空气、玻璃和…
半导体设备国产化率从 16% 到 21%：一年提升五个百分点意味着什么
数据据 Bernstein 2025 年中国晶圆制造设备竞争格局报告（2026 年 6 月发布），2025 年中国半导体设备整体国产化率从 2024 年的…