国产 28 纳米浸没式光刻机：从验收通过到量产交付
进展2025 年，国产 28 纳米浸没式 ArF 深紫外前道光刻机成功推出并顺利通过验收。2026 年初，该设备完成全流程工艺验证，晶圆流…
网格：芯片算力
共 37 片织锦
上海芯上微装 350nm 步进投影光刻机通过验证并获批量订单
一条不那么显眼、但很实在的进展据公开报道，2026 年，上海芯上微装科技股份有限公司自主研发的 350nm 步进投影光刻机通过客户…
纳米压印光刻 PL-AS：绕开 DUV 的另一条路
交付PL-AS 真空气压式晶圆级纳米压印光刻设备是璞璘科技研发的一款半导体级纳米压印光刻机，于 2026 年交付。2026 年 6 月 5 日…
上半年集成电路产量 2798 亿块：日均约 15 亿块意味着什么
数据据央广网《中国经济半年报》报道，2026 年 1—5 月集成电路产量同比增长 25.4%，上半年集成电路总产量 2798 亿块、增速 23.1…
超分辨率光刻的另一条出路：掩膜版成本降到十分之一
一个已实现商业化的场景在关于国产光刻突破的讨论中，有一条路径常被忽略：超分辨直写光刻。据公开资料，中科院上海光机所联合…
EUV 光源的两条路线：LPP 与 DPP 各难在哪
为什么光源是 EUV 的核心难题极紫外光刻（EUV）使用波长 13.5 纳米的光。这个波段的光几乎会被所有材料吸收——包括空气、玻璃和…
半导体设备国产化率从 16% 到 21%：一年提升五个百分点意味着什么
数据据 Bernstein 2025 年中国晶圆制造设备竞争格局报告（2026 年 6 月发布），2025 年中国半导体设备整体国产化率从 2024 年的…
超节点系统：单颗芯片不够强时，如何让一堆芯片协同工作
一个产业动向据央广网报道，2026 年 7 月世界人工智能大会上，中科曙光、华为等企业推出超节点一体化系统解决方案，优化芯片间…
摩尔定律还成立吗：从"两年翻倍"到"成本翻倍"的转向
它原本说的是什么摩尔定律并非物理定律，而是一条产业观察。1965 年，戈登·摩尔（Gordon Moore）观察到，单个集成电路上可容纳…
从 FinFET 到 GAA：晶体管结构为什么要立起来
问题：关不上的开关晶体管本质上是一个受控开关。栅极（Gate）施加电压，控制源极与漏极之间沟道的通断。当器件尺寸不断缩小时…