一条不那么显眼、但很实在的进展

据公开报道，2026 年，上海芯上微装科技股份有限公司自主研发的 350nm 步进投影光刻机通过客户验证并获得批量订单。

350 纳米用在哪

提到光刻机，舆论往往盯着 7 纳米、5 纳米甚至 3 纳米。但芯片产业的实际需求是分层的：

  • 功率器件：IGBT、MOSFET 等，广泛用于新能源汽车、光伏逆变器、工业变频；
  • 射频前端：手机和基站里的滤波器、功率放大器；
  • 光电子芯片：光通信、激光器；
  • Micro LED 新型显示：下一代的显示技术路线。

这些领域对制程节点的要求通常在微米到数百纳米量级，350nm 光刻机正是为这类场景设计的。公开资料显示，该设备可应用于功率器件、射频前端、光电子芯片及 Micro LED 新型显示等制程场景。

配套环节同步推进

在核心元器件配套领域，大功率射频电子管已在光刻机领域得到应用；在光学系统领域，曝光光学系统已实现交付；光刻胶作为光刻工艺的关键材料，国产化进程持续发展，应用于半导体领域的 i-line 光刻胶及 KrF 光刻配套 Barc 材料光刻胶均已实现量产。

怎么看这件事

半导体设备产业的突破，不只在最尖端的那一台机器上。把成熟制程设备的整条产业链——光学系统、工件台、材料、控制软件——逐步做起来，是更基础的功课。批量订单的出现，说明这条链路开始产生商业闭环。

信息来源：百度百科"光刻机技术"词条所引 2026 年公开报道。